[发明专利]局部电镀装置在审
| 申请号： | 202110259094.4 | 申请日： | 2021-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN113493921A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 立石圭一郎 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | C25D5/02 | 分类号： | C25D5/02;C25D5/08;C25D17/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张劲松 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种局部电镀装置，其能够仅对被镀物的一面实施局部电镀。局部电镀装置(30)具备：在内部具有电解液循环路径的电解液循环结构体(31)和输送被镀物(P)的被镀物输送结构体(32)。电解液循环路径在电解液扩散路径(314)和电解液收缩路径(315)之间具有向电解液循环结构体(31)的外部开放的狭缝状的窗口部(317)。被镀物输送结构体(32)一边使被镀物(P)的一面的区域(a1)与窗口部(317)相对，一边沿着窗口部(317)输送被镀物(P)。 | ||
| 搜索关键词： | 局部 电镀 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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