[发明专利]减反膜系、光学元件和制备膜系的方法有效
| 申请号： | 202110262405.2 | 申请日： | 2021-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN113009601B | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 蒯泽文;阮高梁;张礼勋 | 申请（专利权）人： | 浙江舜宇光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/118;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C16/40;C23C16/56 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 刘娜 |
| 地址： | 315499 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种减反膜系、光学元件和制备膜系的方法。减反膜系包括：基底层；过渡层，过渡层与基底层连接，过渡层包括至少一个第一膜层和至少一个第二膜层，第一膜层和第二膜层为多个时，多个第一膜层和多个第二膜层交替叠置，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率；微结构层，微结构层设置在过渡层的一侧表面且微结构层与第二膜层连接；其中，减反膜系对波长在400nm至1050nm范围内的光的最大反射率小于等于1％。本发明解决了现有技术中光学元件存在反射率高的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 减反膜系 光学 元件 制备 方法 | ||
【主权项】：
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