[发明专利]光罩、显示面板在审
申请号: | 202110262879.7 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN112859507A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 练文东 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 远明 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种光罩、显示面板。光罩包括第一开口以及围绕第一开口的掩膜条;掩膜条包括第一部分和的第二部分;其中,第二部分的平均厚度大于第一部分的平均厚度,第一部分和第二部分围成连通第一开口的总空间,总空间包括第一空间和第二空间,第一部分包括围绕第一空间的第一壁,第二部分包括围绕第二空间的第二壁,第一壁与第二壁具有接触部,第二壁在接触部处与水平面的夹角小于第一壁在接触部处与水平面的夹角。本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。 | ||
搜索关键词: | 显示 面板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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