[发明专利]曝光装置和曝光方法在审
| 申请号： | 202110265072.9 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN114077165A | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 伊达宽一 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于靖帅;杨俊波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置和曝光方法。在无掩模曝光装置中，即使在使用了低感光度特性的通用光致抗蚀剂的情况下，也能够适当地形成图案。在曝光装置(100)中，在3次扫描中间歇地执行照度(I1)、单次曝光时间(t)、单次曝光次数(4次)、图案光相同的未完成多重曝光动作(ME1、ME2、ME3)，并且，对于同一部位，是以相同的间隔进行的。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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