[发明专利]量子点材料、图案化量子点膜层、量子点器件和制作方法在审
| 申请号： | 202110274247.2 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN113046058A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 李卓 | 申请（专利权）人： | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02;C09K11/56;C09K11/66;C09K11/70;C09K11/88;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 潘平 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种量子点材料、图案化量子点膜层、量子点器件和制作方法，以改善现有技术在制作图案化量子点膜层时，存在图案化显影精确度低，膜层厚度不均匀的问题。所述量子点材料，包括：量子点本体，第一连接体，以及含叠氮体；所述第一连接体一端与所述量子点本体连接，另一端与所述含叠氮体连接，以将所述含叠氮体与所述量子点本体连接；所述含叠氮体包括： |
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| 搜索关键词： | 量子 材料 图案 点膜层 器件 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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