[发明专利]干刻蚀基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和应用有效
| 申请号： | 202110274308.5 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN113060939B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 唐文江;黄文;吴承晚 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03C17/00;C09K13/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 闻盼盼 |
| 地址： | 410311 *** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种干刻蚀基材形成蒙砂的方法、蒙砂基材和应用，涉及表面加工技术领域，包括：将改性紫外固化压印材料均匀涂布在清洁后的基材上，形成紫外固化压印材料层；将具有浮雕图形结构的压印模板对紫外固化压印材料层进行压印，并进行UV固化，使压印模板上的浮雕图形转印到紫外固化压印材料层上；采用干刻蚀工艺对紫外固化压印材料层和基材进行刻蚀，使微图形转移到基材上。本发明采用紫外固化层代替沉积硬掩模膜层及软模膜层，通过改进紫外固化压印材料和工艺条件，一次压印固化和一次反应离子刻蚀就可实现对不同材料的产品进行蒙砂处理，节省材料，减少工艺步骤，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 基材 形成 方法 应用 | ||
【主权项】：
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