[发明专利]一种通过调控负向电参数提高铝合金微弧氧化膜致密性的方法在审
| 申请号： | 202110274420.9 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN113106516A | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 宋影伟;朱明宇;董凯辉;韩恩厚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04;C25D11/06 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种通过调控负向电参数提高铝合金微弧氧化膜致密性的方法，属于铝合金表面处理领域。该方法将铝合金工件经前处理后进行微弧氧化处理，微弧氧化成膜液是以硅酸钠作为主成膜剂，再加入辅助成膜剂、稳定剂和改性剂。所述微弧氧化电参数为正向电流密度为1～10A/dm |
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| 搜索关键词： | 一种 通过 调控 参数 提高 铝合金 氧化 致密 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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