[发明专利]一种陶瓷孔洞阵列结构减反膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202110281101.0 | 申请日： | 2021-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN113045214B | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 高俊华;汪湾;曹鸿涛;胡海搏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C03C17/245 | 分类号： | C03C17/245 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 刘诚午 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种陶瓷孔洞阵列结构减反膜，包括衬底和减反膜；所述衬底为透明衬底，自衬底向外单向或双向形成一层或多层减反膜；所述减反膜结构为陶瓷孔洞阵列结构；所述的陶瓷孔洞阵列结构的厚度为50‑300nm，其包括陶瓷母相和直立于陶瓷母相上的空气孔洞阵列层；所述的空气孔洞阵列层的孔洞直径不小于2nm，孔洞的平均间距为1.5‑30nm。本发明公开的减反膜在宽谱、大角度的光照射下，具有高透过率和低雾度。本发明还公开了陶瓷孔洞阵列结构减反膜的制备方法，其制备方法简单、高效。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 陶瓷 孔洞 阵列 结构 减反膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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