[发明专利]基于MOFs的钴离子印迹聚合物吸附材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110283904.X 申请日: 2021-03-17
公开(公告)号: CN113150296B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 熊伟;李建;袁果园;刘德蓉;汤毅;崔坤成;李泓锟;李艳秋 申请(专利权)人: 重庆科技学院
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;C08J9/28;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C08L87/00;C02F101/20
代理公司: 重庆蕴博君晟知识产权代理事务所(普通合伙) 50223 代理人: 王玉芝
地址: 401331 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供一种基于MOFs的钴离子印迹聚合物吸附材料,先制备锆基MOFs材料UiO‑66‑(OH)2,再用3‑[2‑(2‑氨基乙基氨基)乙基氨基]丙基‑三甲氧基硅烷和吡啶‑2‑甲醛对其进行修饰改性聚合,然后用盐酸溶液对其进行洗脱以除去钴离子,最后得到钴离子印迹聚合物(Co(II)‑IIP)。本发明制得的Co(II)‑IIP用于含钴离子废水处理,充分结合了离子印迹材料高选择的优势与MOFs材料高吸附容量的特性,实现了从废水中高容量、高选择性的吸附钴离子。本发明制备方法简单,适合工业化生产。
搜索关键词: 基于 mofs 离子 印迹 聚合物 吸附 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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