[发明专利]负离子生成装置有效
| 申请号： | 202110284702.7 | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN113497409B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 北见尚久;前原诚;木下公男 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | H01T23/00 | 分类号： | H01T23/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种负离子生成装置，能够抑制对于对象物的损伤。负离子生成装置(1)在负离子生成部(4)与对象物配置部(3)之间设置有抑制对于对象物配置部(3)的紫外光(UV)的紫外光抑制机构(60)。在负离子生成部(4)为了生成负离子而生成等离子体(P)的情况下，包含紫外光(UV)的等离子体光朝向配置于对象物配置部(3)的基板(11)的方向。此时，通过紫外光抑制机构(60)抑制对于基板(11)的紫外光(UV)，能够减少或阻断照射到基板(11)上的紫外光(UV)。 | ||
| 搜索关键词： | 负离子 生成 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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