[发明专利]移印图章及其制备方法和使用方法有效
| 申请号： | 202110285145.0 | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN113022114B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 冯雪;陈星也;陈颖 | 申请（专利权）人： | 清华大学;浙江清华柔性电子技术研究院;钱塘科技创新中心 |
| 主分类号： | B41F17/00 | 分类号： | B41F17/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种移印图章及其制备方法和使用方法。用于柔性可延展电子器件的移印图章包括图章表面(2)，所述图章表面(2)用于将所述柔性可延展电子器件(5)移印到曲面(6)上，其中，所述图章表面(2)包括硬质区域(3)与软质区域(4)，所述硬质区域(3)的弹性模量大于所述软质区域(4)的弹性模量，在所述移印图章(1)移印所述柔性可延展电子器件(5)期间，所述软质区域(4)用于接触并移印所述柔性可延展电子器件(5)，所述硬质区域(3)用于限定所述柔性可延展电子器件(5)的相对位置。 | ||
| 搜索关键词： | 图章 及其 制备 方法 使用方法 | ||
【主权项】：
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