[发明专利]一种清洗半导体晶片的石英缸有效

专利信息
申请号: 202110288194.X 申请日: 2021-03-18
公开(公告)号: CN112676238B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 张忠恕;陈强;程新宇;王连连;张娟;冯继瑶;于洋;边占宁;张连兴;李宝军;赵晓亮;李翔星;卢亮;周洁;王笑波 申请(专利权)人: 北京凯德石英股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 赵万凯
地址: 101149 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请涉及一种清洗半导体晶片的石英缸,包括底座,设置在底座上的石英缸体,所述石英缸体上部开口,开口处设置有盖板,石英缸体的底部设有倾斜板,处于倾斜板底端的石英缸体侧壁上设有排液口,所述石英缸体的内部可拆卸的连接有晶片夹持组件,所述石英缸体内还设有清洗毛刷,所述的底座上设有驱动晶片夹持组件动作的驱动组件。本申请的有益效果为:可以在清洗前将多个晶片固定在晶片夹持组件上,之后再将晶片夹持组件安装在石英缸内,通过清洗液进行清洗,可以同时清洗多个晶片,提高了清洗效率以及操作的安全性。
搜索关键词: 一种 清洗 半导体 晶片 石英
【主权项】:
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