[发明专利]一种清洗半导体晶片的石英缸有效
申请号: | 202110288194.X | 申请日: | 2021-03-18 |
公开(公告)号: | CN112676238B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 张忠恕;陈强;程新宇;王连连;张娟;冯继瑶;于洋;边占宁;张连兴;李宝军;赵晓亮;李翔星;卢亮;周洁;王笑波 | 申请(专利权)人: | 北京凯德石英股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 赵万凯 |
地址: | 101149 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请涉及一种清洗半导体晶片的石英缸,包括底座,设置在底座上的石英缸体,所述石英缸体上部开口,开口处设置有盖板,石英缸体的底部设有倾斜板,处于倾斜板底端的石英缸体侧壁上设有排液口,所述石英缸体的内部可拆卸的连接有晶片夹持组件,所述石英缸体内还设有清洗毛刷,所述的底座上设有驱动晶片夹持组件动作的驱动组件。本申请的有益效果为:可以在清洗前将多个晶片固定在晶片夹持组件上,之后再将晶片夹持组件安装在石英缸内,通过清洗液进行清洗,可以同时清洗多个晶片,提高了清洗效率以及操作的安全性。 | ||
搜索关键词: | 一种 清洗 半导体 晶片 石英 | ||
【主权项】:
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