[发明专利]一种用于晶硅片快速碱抛光的抛光剂及其应用方法在审
| 申请号： | 202110289018.8 | 申请日： | 2021-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN113136144A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 张红利;王池;罗江;李雪芬;李扬;李锋清;袁振琴;凡宝安;张帅;周浩;熊健;曹锐;虢世恩;李强;毕超群;喻超;王丰;程力 | 申请（专利权）人： | 武汉风帆电化科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18;H01L21/304;H01L31/18 |
| 代理公司： | 武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247 | 代理人： | 李杰梅 |
| 地址： | 430000 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种用于晶硅片快速碱抛光的抛光剂及其应用方法，包括基础液、辅助液和有机硅材料；基础液为碱液，基础液用于碱性刻蚀晶硅片；辅助液按质量百分比包括，1.0‑2.0％硫酸钠、1.0‑2.0％两性表面活性剂和5.0‑10％有机溶剂，余量为水；有机硅材料包括硅烷偶联剂和硅油，有机硅材料作为消泡剂及界面保护剂；将基础液、辅助液和有机硅材料按比例混合均匀后，再将晶硅片置于混合液中进行碱性刻蚀反应，同时搅拌溶液使反应充分；采用碱性抛光技术，低酸的消耗及排放，同时利用有机硅材料和两性表面活性剂协同作用，能够大幅提高刻蚀反应的效率，还可以迅速传递走产生的氢气气泡，从而保证抛光更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 硅片 快速 抛光 及其 应用 方法 | ||
【主权项】：
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