[发明专利]测量外延前后光刻套刻误差的方法及结构有效
| 申请号： | 202110289388.1 | 申请日： | 2021-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN113109997B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 李冰;李营营 | 申请（专利权）人： | 上海信及光子集成技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01L21/66;H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人： | 张东梅 |
| 地址： | 200437 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种测量外延前后光刻套刻误差的方法及结构，包括：在第一基底表面上进行刻蚀，形成游标主尺刻度原始标记；在第一基底表面上进行外延，形成第二基底表面，根据游标主尺刻度原始标记的现有形貌设置游标主尺刻度标记、以及设置游标主尺刻度标记的原点；在第二基底表面上进行光刻，形成游标尺刻度标记；检测游标主尺刻度标记与游标尺刻度标记的实际对准点，根据实际对准点和游标尺精度计算光刻套刻误差。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 外延 前后 光刻 误差 方法 结构 | ||
【主权项】：
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