[发明专利]一种用于X射线管阳极靶的金属涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202110293915.6 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113061859B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 常鸿;刘春海;王用文;杨弘毅 | 申请（专利权）人： | 成都齐兴真空镀膜技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/58;H01J35/08 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 李蜜;钟玉巧 |
| 地址： | 610093 四川省成都市成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于X射线管阳极靶的金属涂层及其制备方法，以W、Cr、Mo或Ag为金属靶，通过改进磁控溅射工艺，在铜基底上沉积得厚度25～40μm的金属涂层，所制备的金属涂层与基底结合力可超过100N，且涂层致密、均匀性好，可作为激发X射线的阴极射线管中阳极靶使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 射线 阳极 金属 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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