[发明专利]一种可自噬抑制的靶向卟啉金属有机框架材料PCN-224+HCQ+FA的合成方法有效
| 申请号： | 202110298839.8 | 申请日： | 2021-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN113087919B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 喻长远;陆玥达;李一帆;韩雪怡 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08G83/00 | 分类号： | C08G83/00;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种可自噬抑制的靶向卟啉金属有机框架材料PCN‑224+HCQ+FA的合成方法属于金属有机框架材料制备领域。本发明选择含有卟啉的光动力MOF纳米粒子，在其多孔结构中装载了自噬抑制剂硫酸羟氯喹(HCQ)，HCQ能在酸性条件下从MOF孔中释放出来，从而切断因光动力治疗下严重氧化损伤下的保护性自噬，最终达到杀死癌细胞的效果。然后在MOF表面进行叶酸(FA)修饰，可用于靶向富含叶酸受体的肿瘤细胞，增强了光动力治疗效能并有效地进行了递送。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 靶向 卟啉 金属 有机 框架 材料 pcn 224 hcq fa 合成 方法 | ||
【主权项】：
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