[发明专利]一种电子束制备高硅铝硅合金涂层的工艺方法有效
| 申请号： | 202110301701.9 | 申请日： | 2021-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN113059158B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 高波;张莹;孙悦;刘状;尹俊太;李魁;付海洋 | 申请（专利权）人： | 东北大学 |
| 主分类号： | B22F7/04 | 分类号： | B22F7/04;C22C21/02;B22F1/10;B22F3/105 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 陈玲玉 |
| 地址： | 110819 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种电子束制备高硅铝硅合金涂层的工艺方法，包括以下工艺步骤：(1)混粉：按照原料的配比将Al粉、Si粉、稀土氧化物粉末放入混粉机中进行混粉；(2)表面预处理：将混粉后的混合粉末摻入胶黏剂，并将其涂抹在抛光后的铝块上；(3)电子束表面改性：将表面预处理后的铝块置于6×10 |
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| 搜索关键词： | 一种 电子束 制备 高硅铝硅 合金 涂层 工艺 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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