[发明专利]消除大容量光栅阵列“鬼影”的方法及系统在审
| 申请号： | 202110306316.3 | 申请日： | 2021-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113064233A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 李凯;徐一旻;宋珂;王月明;马俊杰 | 申请（专利权）人： | 武汉烽理光电技术有限公司;武汉理工大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红 |
| 地址： | 430079 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种消除大容量光栅阵列“鬼影”的光栅刻写方法，在刻写光栅阵列的过程中，改变任意两个相邻光栅之间的距离，使得相邻间隔之差不为零。本发明可以有效消除大容量光栅阵列经过多次反射后产生的“鬼影”现象。 | ||
| 搜索关键词： | 消除 容量 光栅 阵列 鬼影 方法 系统 | ||
【主权项】：
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