[发明专利]CZT晶体及其后处理方法、CZT晶片、核辐射探测器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110307620.X 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN113151901A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 田亚杰;闵嘉华;王坤元;王林军;张继军;李磊;刘洪涛 申请(专利权)人: 中广核工程有限公司;深圳中广核工程设计有限公司;上海大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B11/00;C30B33/02;C30B33/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 陈春渠
地址: 518000 广东省深圳市大*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种CZT晶体及其后处理方法、CZT晶片、核辐射探测器件及其制备方法。上述CZT晶体的后处理方法,包括如下步骤:采用移动加热器法生长CZT晶体;将CZT晶体先在870℃~930℃下进行原位退火处理50h~70h,然后在50h~80h内将温度降至400℃~420℃,最后在400℃~420℃下保温40h~50h。上述CZT晶体的后处理方法利用热迁移机制消除热应力、减少Te夹杂和Te沉淀,获得的CZT晶体质量高、Te夹杂等相关缺陷密度减小,最终提高CZT晶体用于探测器时的光电性能。
搜索关键词: czt 晶体 其后 处理 方法 晶片 核辐射 探测 器件 及其 制备
【主权项】:
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