[发明专利]液体处理装置和液体处理方法在审
| 申请号： | 202110308182.9 | 申请日： | 2021-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113441195A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 山内拓史 | 申请（专利权）人： | 恩普乐股份有限公司 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨芳;臧建明 |
| 地址： | 日本埼玉*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及液体处理装置和液体处理方法。液体处理装置具有：用于供主液体流动的主流路；在所述主流路的底面开口且用于供鞘液流动的第一鞘液流路；以及在所述主流路的顶面开口且用于供所述鞘液流动的第二鞘液流路。所述第一鞘液流路和所述第二鞘液流路中的至少一者的与所述主流路的合流部由基板和向远离所述基板的方向弯曲的薄膜的弯曲部构成。 | ||
| 搜索关键词： | 液体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩普乐股份有限公司，未经恩普乐股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110308182.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光插座及光模块
- 下一篇：存储器装置中的低电阻通孔触点
