[发明专利]提高光刻设备对准性能的方法及装置有效
| 申请号： | 202110314210.8 | 申请日： | 2021-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN113050395B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 程朝 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;高翠花 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高光刻设备对准性能的方法及装置，其能够根据产品特性提供最佳的对准光源类型进行对准处理，提高了产品的套刻性能及降低晶圆良率损失，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 光刻 设备 对准 性能 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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