[发明专利]二硫化钼增强银纳米线表面等离子体激元传输长度的基底有效

专利信息
申请号: 202110316048.3 申请日: 2021-03-24
公开(公告)号: CN113156555B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 吕柳;陈磊;张良;赵甜甜 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种二硫化钼增强银纳米线表面等离子体激元传输长度的基底,该基底为层状结构,自下而上依次为硅层、300nm厚的SiO2层、三角形状单层MoS2层和金属银纳米线层。通过使用光纤锥移动(移动光纤锥)同一根Ag NW相对于MoS2/SiO2衬底于不同的位置并利用光纤锥激发(激发光纤锥)Ag NW的SPPs,包括Ag NW全部位于SiO2衬底或MoS2/SiO2复合物上、Ag NW一部分位于SiO2衬底一部分位于MoS2/SiO2复合物上。本发明在单层二硫化钼的帮助下显著提高银纳米线SPPs的激发效率和传输效率,进而提高了传输长度,并具有操作简便、快速、准确、消耗能源少等优点。
搜索关键词: 二硫化钼 增强 纳米 表面 等离子体 传输 长度 基底
【主权项】:
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