[发明专利]二氢吡啶类药物降解杂质的合成方法有效
| 申请号： | 202110317960.0 | 申请日： | 2021-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN113045426B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 何银杰;高砚芳;袭祥明;王震;孟猛;肖培印 | 申请（专利权）人： | 济南良福精合医药科技有限公司 |
| 主分类号： | C07C201/12 | 分类号： | C07C201/12;C07C201/16;C07C205/45;C07C205/49 |
| 代理公司： | 济南克雷姆专利代理事务所(普通合伙) 37279 | 代理人： | 杨婷 |
| 地址： | 250000 山东省济南市中国（山东）自由*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于有机合成技术领域，具体涉及一种二氢吡啶类药物降解杂质的合成方法，以3‑硝基苯甲醛和丙酮磷酸二甲酯为原料反应获得中间体1，然后依次与乙酰乙酸甲酯和多聚磷酸进行反应，最终获得降解杂质I和降解杂质II，降解杂质I的收率为30‑35％，纯度达到97％以上，降解杂质II的收率25‑30％，纯度达到97％以上。本发明通过化学合成方法制备出高纯度的二氢吡啶类药物降解杂质I和降解杂质II，可进一步用于降解杂质I和降解杂质II的药理和毒理研究，对二氢吡啶类药物杂质副作用研究提供样品支持，同时可以作为二氢吡啶类药物有关物质HPLC分析用杂质工作标准品。 | ||
| 搜索关键词： | 二氢吡啶 类药物 降解 杂质 合成 方法 | ||
【主权项】：
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