[发明专利]半导体工艺设备

摘要

本发明提供一种半导体工艺设备，包括晶片传输模块和至少一个工艺腔室，每个工艺腔室均包括多个反应腔室，晶片传输模块用于向每个工艺腔室中的多个反应腔室中放入晶片，还包括控制装置，用于在待加工的晶片数量n小于当前待接收晶片的工艺腔室中的反应腔室数量时，控制晶片传输模块向工艺腔室中膜厚参数最小的前n个反应腔室中放入晶片。在本发明中，控制装置能够在当前批次的剩余待加工晶片数量小于工艺腔室中的反应腔室数量时，根据各反应腔室种的副产物镀膜调整优先级顺序，使镀膜厚度较小的反应腔室优先接收晶片并进行半导体工艺，提高了半导体工艺设备的腔室匹配性能，进而提高了各反应腔室产出晶片之间的一致性。