[发明专利]一种小型化的高消光比调制器件及其使用方法在审
| 申请号： | 202110326033.5 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113031317A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 傅力;潘昊;李林松 | 申请（专利权）人： | 武汉光迅科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/03 | 分类号： | G02F1/03;G02F1/035 |
| 代理公司： | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 | 代理人： | 何婷 |
| 地址： | 430074 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种小型化的高消光比调制器件及其使用方法，所述高消光比调制器件包括铌酸锂薄膜调制器和起偏器，所述铌酸锂薄膜调制器包括硅衬底、在所述硅衬底上设置有铌酸锂薄膜脊波导和调制电极，所述起偏器包括铌酸锂衬底，在所述铌酸锂衬底上设置有光波导。在本发明中，通过制作高折射率差的铌酸锂薄膜脊波导，提高了波导对光波的限制能力，可以极大的缩小波导尺寸，进而减小了电极间距和电极长度。脊波导的调制电极分布于波导两侧，调制效率高于质子交换掩埋型波导，提高了调制效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 小型化 高消光 调制 器件 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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