[发明专利]一种陶瓷基双面RDL 3D封装方法及结构在审
申请号: | 202110332605.0 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN113178440A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 孙函子;门国捷;徐浩然;王宁;刘全威;张崎 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十三研究所 |
主分类号: | H01L25/18 | 分类号: | H01L25/18;H01L23/31;H01L21/60;H01L23/488 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 金凯 |
地址: | 230088 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了高密度集成电路封装领域的一种陶瓷基双面RDL 3D封装方法及结构,包括具有多层布线结构的陶瓷基板,所述陶瓷基板内部通过厚膜TCV通孔实现电气垂直互连;所述陶瓷基板的正面制备有正面多层薄膜RDL层,正面多层薄膜RDL层上安装电子器件,且陶瓷基板的正面采用气密性结构封装;所述陶瓷基板的背面开设至少一个腔体,腔体的内部还设有电子器件;所述腔体内部以及陶瓷基板的背面形成有固化的介质层,所述介质层上制备有背面多层薄膜RDL层。本发明将有源芯片和无源器件等电子器件集成在封装结构上,不通过2.5D转接板即可实现高密度芯片的RDL,有效缩短芯片间电气传输的物理距离,降低传输损耗、提升电路带宽、降低系统热阻,提升布线密度。 | ||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 双面 rdl 封装 方法 结构 | ||
【主权项】:
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