[发明专利]一种陶瓷基双面RDL 3D封装方法及结构在审

专利信息
申请号: 202110332605.0 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113178440A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 孙函子;门国捷;徐浩然;王宁;刘全威;张崎 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十三研究所
主分类号: H01L25/18 分类号: H01L25/18;H01L23/31;H01L21/60;H01L23/488
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 金凯
地址: 230088 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了高密度集成电路封装领域的一种陶瓷基双面RDL 3D封装方法及结构,包括具有多层布线结构的陶瓷基板,所述陶瓷基板内部通过厚膜TCV通孔实现电气垂直互连;所述陶瓷基板的正面制备有正面多层薄膜RDL层,正面多层薄膜RDL层上安装电子器件,且陶瓷基板的正面采用气密性结构封装;所述陶瓷基板的背面开设至少一个腔体,腔体的内部还设有电子器件;所述腔体内部以及陶瓷基板的背面形成有固化的介质层,所述介质层上制备有背面多层薄膜RDL层。本发明将有源芯片和无源器件等电子器件集成在封装结构上,不通过2.5D转接板即可实现高密度芯片的RDL,有效缩短芯片间电气传输的物理距离,降低传输损耗、提升电路带宽、降低系统热阻,提升布线密度。
搜索关键词: 一种 陶瓷 双面 rdl 封装 方法 结构
【主权项】:
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