[发明专利]基板处理设备在审
| 申请号： | 202110333560.9 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN113471048A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 沈光辅;尹芝勋;申东辉;吴贤优;姜佳岚 | 申请（专利权）人： | PSK有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 阚梓瑄 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文公开了一种用于处理基板的设备。该设备包括：工艺处理单元，用于提供在其中执行基板处理的处理空间；以及产生等离子体的等离子体产生单元，其中，所述等离子体产生单元包括：等离子体室，具有等离子体产生空间；气体供应单元，用于将处理气体供应到等离子体产生空间；功率施加单元，用于通过使处理气体离开等离子体产生空间而产生等离子体；扩散室，布置在等离子体室的下方，并且具有扩散空间，该扩散空间用于扩散在等离子体产生空间中产生的等离子体和/或供应至等离子体产生空间的处理气体，以将其均匀地输送至处理空间，其中具有至少一个穿孔的扩散板可以布置在扩散空间中。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于PSK有限公司，未经PSK有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110333560.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：气体检测装置
- 下一篇：用于人工智能操作的存储器装置
