[发明专利]器件密封方法、器件密封装置和半导体产品的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110334362.4 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113517206A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 秋月伸也;山本雅之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社;日东精机株式会社
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/10
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供精度良好地密封器件且使密封过程中的工件和密封材料的处理变得容易的器件密封方法、器件密封装置和半导体产品的制造方法。器件密封方法具备:第1密封过程,在该第1密封过程中,将密封片(S)和搭载有LED(11)的基板(10)收纳于腔室(29),以对腔室(29)的内部空间进行了减压的状态使密封片(S)接触于基板(10)的搭载有LED(11)的面,由此利用密封片(S)来覆盖LED(11);以及第2密封过程,该第2密封过程是在第1密封过程之后,通过提高腔室(29)的内部空间的压力,从而利用密封片(S)来密封LED(11)。
搜索关键词: 器件 密封 方法 装置 半导体 产品 制造
【主权项】:
暂无信息
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