[发明专利]陶瓷真空镀膜工艺方法有效
| 申请号： | 202110336148.2 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN113087548B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 王君;王思航;闫超颖;李昌华 | 申请（专利权）人： | 沈阳爱科斯科技有限公司;辽宁卓越真空设备有限公司;王君 |
| 主分类号： | C04B41/90 | 分类号： | C04B41/90;C04B41/91;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 李翠 |
| 地址： | 110000 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本申请涉及镀膜工艺领域，尤其是涉及一种陶瓷真空镀膜工艺方法。陶瓷真空镀膜工艺方法包括如下步骤：S1：将陶瓷基材放入真空室内并抽真空；S2：向真空室充入惰性气体；S3：开启偏压电源调节偏压电源的参数；开启转架；S4：对陶瓷基材镀膜包括如下步骤：S4.1：对陶瓷基材加热放气；S4.2：开启第一预设金属靶对陶瓷基材刻蚀；S4.3：关闭第一预设金属靶；开启第二预设金属靶对陶瓷基材打底；S4.4：关闭第一预设金属靶和第二预设金属靶；开启第三预设金属靶对陶瓷基材镀膜；S5：降低真空室温度。本申请通过对陶瓷基材依次进行预热放气、刻蚀、打底及镀膜，提升了镀层的均匀性和镀层的附着度，进而提升了滤波器的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷 真空镀膜 工艺 方法 | ||
【主权项】：
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