[发明专利]半导体结构及半导体结构制作方法有效

专利信息
申请号: 202110336757.8 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113097209B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 卢经文;洪海涵 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 邱婧雯;黄健
地址: 230011 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明实施例提供一种半导体结构及半导体结构制作方法,属于半导体技术领域,以解决第二导电块与位线之间容易产生寄生电容及发生漏电的技术问题。本发明实施例的半导体结构包括基底、位线结构以及电容连接线,多个位线结构设置在基底上,相邻的位线结构之间形成有接触孔;电容连接线包括第一导电块和第二导电块,第一导电块和第二导电块依次填充在接触孔内,第一导电块的顶端设置有倒角结构,倒角结构与位线结构邻接,第二导电块底端与倒角结构配合。本发明实施例的半导体结构增大了第二导电块与位线结构之间的距离,防止第二导电块与位线结构之间产生寄生电容,且防止发生漏电,提高了半导体结构的性能。
搜索关键词: 半导体 结构 制作方法
【主权项】:
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