[发明专利]光致抗蚀剂层表面处理、盖层和形成光致抗蚀剂图案的方法在审
| 申请号： | 202110337729.8 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN113156770A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 郭怡辰;刘之诚;翁明晖;魏嘉林;陈彦儒;李志鸿;郑雅如;杨棋铭;李资良;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 赵艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本申请涉及光致抗蚀剂层表面处理、盖层和形成光致抗蚀剂图案的方法。具体地，一种在光致抗蚀剂层中形成图案的方法包括在基板上方形成光致抗蚀剂层，以及降低所述光致抗蚀剂层的湿气或氧气吸收特性。使所述光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐射以形成潜在图案，并且通过将显影剂施加至所述经选择性暴露的光致抗蚀剂层使所述潜在图案显影以形成图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂层 表面 处理 盖层 形成 光致抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
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