[发明专利]光刻工艺条件添加方法及装置、设计系统、介质和设备有效
| 申请号： | 202110339791.0 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN113050389B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 陈志立 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F30/392 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开是关于一种光刻工艺条件添加方法、光刻工艺条件添加装置及图形设计系统、存储介质和电子设备，所述光刻工艺条件添加方法，用于图形设计系统，包括：获取所述图形设计系统中记录的层识别码，根据所述层识别码确定光刻层对应的工艺条件；根据所述工艺条件生成工艺类型数据信息；将所述工艺类型数据信息通过所述层识别码标记，并存储至所述图形设计系统中。本公开可以在EDA的图形设计系统中添加光刻工艺条件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 工艺 条件 添加 方法 装置 设计 系统 介质 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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