[发明专利]CMOS图像传感器、干涉型滤光片及其制备方法有效
| 申请号： | 202110343446.4 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN113093322B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 袁恺;陈世杰 | 申请（专利权）人： | 联合微电子中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G03F7/00;H04N25/76 |
| 代理公司： | 北京北汇律师事务所 11711 | 代理人： | 马亚坤 |
| 地址： | 401332 重庆*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CMOS图像传感器、干涉型滤光片及其制备方法，其中，该干涉型滤光包括：第一材料层，波长调节层，第二材料层；干涉型滤光片底层设置有第一材料层；该第一材料层上方设置有波长调节层，该波长调节层用于抑制由于光的入射角不同产生的波长蓝移；该波长调节层上方设置有第二材料层。解决了现有技术中在CMOS图像传感器的边缘部分，透过波长发生明显的蓝移的问题，进而提高了多波段成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | cmos 图像传感器 干涉 滤光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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