[发明专利]一种具有应变预置层结构的近红外LED及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202110344031.9 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN112736172B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 熊欢;林晓珊;徐培强;潘彬;王向武 申请(专利权)人: 南昌凯捷半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/06;H01L33/30;H01L33/00
代理公司: 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 代理人: 孙文伟
地址: 330000 江西省南昌市临*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供一种具有应变预置层结构的近红外LED及其制作方法,该近红外LED的外延片从衬底由下往上依次生长有N‑GaAs缓冲层、N‑GaInP腐蚀截止层、N‑GaAs接触层、N‑GaInP电极强化层、N‑AlxGa1‑xAs电流扩展层、N‑AlxGa1‑xAs限制层、N‑GaxIn1‑xP应变预置层、第一AlxGa1‑xAs Space层、有源层、第二AlxGa1‑xAs Space层、P‑AlxGa1‑xAs限制层、P‑AlxGa1‑xAs电流扩展层、P‑过渡层和P‑GaP接触层。本发明通过在传统结构中的N‑AlxGa1‑xAs限制层和第一AlxGa1‑xAs Space层之间插入一层N‑GaxIn1‑xP应变预置层,将第一AlxGa1‑xAs Space层的应变状态调为张应变,进而在一定程度上平衡InGaAs量子阱的压应变,抑制位错和裂纹的产生,提高了有源区的晶体质量。
搜索关键词: 一种 具有 应变 预置 结构 红外 led 及其 制作方法
【主权项】:
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