[发明专利]一种微波基板制作方法在审

专利信息
申请号: 202110344436.2 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113207227A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 高凤芹 申请(专利权)人: 北京无线电测量研究所
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/26
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张丽
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请的一个实施例公开了一种微波基板制作方法,该方法包括:S10、导入微波基板设计图,对所述微波基板设计图进行数据处理,生成加工数据;S20、选定介质基板;S30、进行激光微细加工,得到第一加工介质基板;S40、检查是否有浮灰,若有,对第一表面进行清灰处理并对所述第一表面进行贴膜处理,若无,检查第二表面是否有浮灰,若有,对所述第二表面进行清灰处理并对所述第二表面进行贴膜处理,得到第二加工介质基板;S50、对所述第二加工介质基板进行修板处理;S60、对所述第二加工介质基板进行刮边处理,得到多个第三加工介质基板;S70、对有污物的第三加工介质基板进行清污处理;S80、进行质量检验,质量检验合格后进行包装,得到微波基板。
搜索关键词: 一种 微波 制作方法
【主权项】:
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