[发明专利]一种投影光刻设备的水平校准方法和装置在审
| 申请号： | 202110351717.0 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN112904683A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 束奇伟;徐扬;任星晓 | 申请（专利权）人： | 上海御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影光刻设备的水平校准方法和装置，方法包括首先利用投影光刻设备中的对准传感器对准校准板上定位标记区域，调整工件台测量姿态；接着控制工件台携带校准板沿第一方向移动；接着利用位置传感器实时获取工件台中心位置的坐标；接着调焦调平传感器向校准板上投射光斑，并实时获取第二反射区域反射光斑的光强；接着获取对应的校准板的第二反射区域的中心位置在工件台坐标系下的坐标；接着根据所述第一光强和所述第一坐标的关系，结合所述第二坐标获取所述光斑的实测位置，从而，实现投影光刻设备的水平校准，使投影光刻设备中的掩模台的掩模图样可精准地复制到基底表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光刻 设备 水平 校准 方法 装置 | ||
【主权项】：
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