[发明专利]离子源、等离子体室以及调整等离子体的体积的方法在审
| 申请号： | 202110355098.2 | 申请日： | 2017-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN113097048A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 具本雄;黄容奭;郑经宰 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/08;H01J27/16 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子源、等离子体室以及调整等离子体的体积的方法。离子源包括：等离子体室，具有在第一端壁与第二端壁之间延伸的纵向轴线；以及射频天线，邻近等离子体室内的等离子体，其中射频天线被配置成向等离子体提供射频能量。离子源可还包括端板，端板邻近第一端壁设置在等离子体室内，端板被沿纵向轴线在第一位置与第二位置之间致动，以调整等离子体的体积。通过提供可致动端板及射频天线，可对等离子体特性进行动态控制以影响离子源特性，例如离子物质的组成，包括亚稳态中性粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 等离子体 以及 调整 体积 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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