[发明专利]具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法有效
| 申请号： | 202110356876.X | 申请日： | 2021-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN113235064B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 武双元;朱峰;熊志红;陈明;杨春雷;胡明珠;王伟;韩燕坤;彭燕君 | 申请（专利权）人： | 深圳仕上电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;B05D7/24;C23C14/22;C23G1/02 |
| 代理公司： | 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 | 代理人： | 田丽丽 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区福海街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法，具有牺牲层的镀腔内壁构件，包括镀腔内壁构件和形成于所述镀腔内壁构件表面的牺牲层，所述牺牲层在清洗过程中被去除。对被杂质层污染后的所述具有牺牲层的镀腔内壁构件用酸清洗剂进行清洗，所述清洗过程中，所述杂质层和所述牺牲层均被去除，得到清洗后的镀腔内壁构件。本发明的清洗方法付不仅能够清除掉杂质层，同时不伤害原有镀腔内壁构件。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 牺牲 内壁 构件 及其 制备 方法 以及 清洗 | ||
【主权项】：
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