[发明专利]一种新型纳米压印设备及其压印方法

摘要

本发明提出一种新型纳米压印设备，包括：吸盘，支撑装置，其设置有两个，分别位于吸盘的左侧及右侧；滴胶装置，其位于左侧支撑装置与吸盘之间；涂布装置，具有可伸缩的涂布块，通过涂布块的伸缩涂布胶液；固定装置，用于固定PET；压印曝光装置，具有可伸缩的压印头，并向第二固定装置的方向伸缩，压印头上具有透光区以及与透光区对应的紫外灯；胶液回收装置，收集压印溢出的废胶液。一种新型纳米压印设备的压印方法，包括以下步骤：S1：上料；S2：点胶；S3：涂布及废胶液回收；S4：压印；S5：脱模。本发明不仅能够自动点胶、涂布、压印曝光以及脱模，无需人工干预，且压印过程中产生无气泡产生，自动化程度高。