[发明专利]对准量测标记结构及对准量测方法有效
| 申请号： | 202110360791.9 | 申请日： | 2021-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN113093479B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 刘文奇 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 史治法 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种对准量测标记结构及对准量测方法，包括：第一套刻标记；第二套刻标记，所述第二套刻标记包括待量测图形结构；其中，所述第一套刻标记与所述第二套刻标记位于相邻层，且所述第一套刻标记在所述第二套刻标记所在层的正投影位于所述第二套刻标记内侧，或所述第一套刻标记在所述第二套刻标记所在层的正投影位于所述第二套刻标记的外围。本发明的对准量测标记结构通过设置待量测图形结构作为第二套刻标记，在使用对准量测标记结构进行对准时即可实现待量测图形结构的量测，可以提高对准和量测的工作效率；同时本发明的对准量测标记结构可以使用光学量测方式对待量测图形进行量测，量测过程中不会产生气体副产物，不会对晶圆造成污染。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 标记 结构 方法 | ||
【主权项】：
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