[发明专利]一种半导体用石英的氧化钇涂层的制备方法

摘要

本发明公开了一种半导体用石英的氧化钇涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将石英零件非喷涂区域进行遮挡保护后进行喷砂；S2、将喷砂后的石英进行纯水超声波清洗，清洗后放入烘箱烘干；S3、烘干后喷涂氧化钇涂层；S4、喷涂后，将遮挡保护去掉，去掉毛刺，进行纯水超声清洗。本发明在石英表面喷涂氧化钇涂层，形成耐物理腐蚀的保护层，工作时涂层与蚀刻气体生成的氟化钇不易蒸发，不污染腔体环境，使用后的石英部件经药水浸泡，去除涂层和副产物，可重新进行喷砂喷涂工艺，大大增加零件的使用次数，提高了使用率，降低了生产成本。