[发明专利]显示面板的排版方法、排版系统及电子设备有效
申请号: | 202110372018.4 | 申请日: | 2021-04-07 |
公开(公告)号: | CN113109993B | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
发明(设计)人: | 刘洋 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F9/00 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 远明 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请公开了一种显示面板的排版方法、系统及电子设备,该显示面板的排版方法包括:获取显示面板的产品信息,所述产品信息包括显示面板尺寸以及显示面板内各膜层的制程信息;根据所述产品信息确定各膜层所需的掩膜板;对所述掩膜板进行排版,根据各膜层的制程信息设定至少一掩膜板位置,每一掩膜板用以至少一膜层制程;以及设计优化排版方案,在一张制作板上对至少一显示面板进行排版;所述优化排版方案包括每一显示面板的位置,在每一膜层制程中,所述制作板能够移动至用于该制程的一掩膜板处,使一显示面板需要被图案化的位置与该掩膜板相对设置。 | ||
搜索关键词: | 显示 面板 排版 方法 排版系统 电子设备 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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