[发明专利]一种真空感应化学气相沉积炉有效
申请号: | 202110372054.0 | 申请日: | 2021-04-07 |
公开(公告)号: | CN113106428B | 公开(公告)日: | 2022-07-26 |
发明(设计)人: | 于方;张建宏;周国达;王姗姗;郭秋艳;孟爽;刘铎;曹月 | 申请(专利权)人: | 锦州同创真空冶金科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/52;C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王富强 |
地址: | 121012 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空感应化学气相沉积炉,涉及化工设备技术领域,包括炉体、真空系统和充气系统,所述炉体内设置有加热室,所述加热室外侧设置有感应加热装置,所述加热室内设置有沉积室,所述沉积室与所述充气系统连通,所述加热室与所述炉体之间为真空室,所述加热室和所述真空室分别通过管路与所述真空系统连通。本发明将真空室和沉积室设置成两个相互独立的结构,真空室和沉积室不相通,沉积气体仅通入沉积室,不仅减少了沉积气体的浪费,还便于控制沉积室内沉积气体的压力和密度;真空系统分别对真空室和沉积室进行抽真空,沉积室内排出的污染性废气可以直接排出炉体之外,避免了对真空室的污染和损坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 感应 化学 沉积 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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