[发明专利]一种晶体硅碱抛光添加剂及使用方法在审
| 申请号： | 202110374139.2 | 申请日： | 2021-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113122148A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 华永云;杜雪峰 | 申请（专利权）人： | 云南合义德新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/04 | 分类号： | C09G1/04;H01L21/306 |
| 代理公司： | 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 | 代理人： | 罗江 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市昆明片区经开区信*** | 国省代码： | 云南;53 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及晶体硅技术领域，且公开了一种晶体硅碱抛光添加剂，包括以下成分：冠醚；柠檬酸；聚季铵盐；乙二胺四乙酸二钠；硅烷偶联剂；十二烷基氨基丙酰胺；苯甲酸钠；去离子水。本发明以碱抛光工艺为基础，在氢氧化钾或氢氧化钠等无机碱溶液中加入本发明的添加剂配成抛光液，抛光时添加剂使无机碱与硅、氧化硅的反应呈现出极强的选择性，即添加剂促进无机碱与硅的反应，而抑制无机碱与氧化硅的反应。将本发明用于晶体硅太阳能电池生产的抛光工艺中，硅片背面反射率高，正面PN结保持完好，包括激光SE处理的电极位置PN结也保持完好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 抛光 添加剂 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南合义德新材料有限公司，未经云南合义德新材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110374139.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种高压断路装置测试设备
- 下一篇：一种单音信号的检测方法
