[发明专利]电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110374368.4 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113097420A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 张永峰;康亮亮;焦志强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;G02B30/00;G02B30/27;G02B30/30
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李弘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供一种电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置。所述电极制备方法包括:提供一衬底,所述衬底包括导电膜层;在所述导电膜层上形成平坦化层,在所述平坦化层上形成过孔;在所述过孔内形成过孔填充结构,所述过孔填充结构沿垂直于所述平坦化层方向的厚度等于所述过孔的深度;采用纳米压印工艺及干刻工艺,在所述平坦化层上形成电极层;所述电极层通过所述过孔填充结构与所述导电膜层电连接。本公开所述电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置,能够减小电极层中各子电极单元之间的间隔与空隙,提高显示产品的PPI,增加显示产品显示内容的信息量,同时还避免产生摩尔纹显示不良。
搜索关键词: 电极 结构 及其 制备 方法 显示 显示装置
【主权项】:
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