[发明专利]面曝光光斑光强匀化方法及其应用有效
| 申请号： | 202110377589.7 | 申请日： | 2021-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113096040B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 王晨光;沈显峰;王国伟;秦煜;杨家林;张文康;王开甲;朱京玺;黄姝珂 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06V10/28;G02B27/09 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 唐邦英 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了面曝光光斑光强匀化方法及其应用，匀化方法包括以下步骤：S1、在面曝光切片分层软件中对stl模型进行切片处理获得切片图像，并对切片图像进行灰度处理，生成二值灰度图像；S2、生成高斯补偿图像，获得参数可调的高斯晕影，所述参数包括高斯峰值和高斯半径；S3、将步骤S1获得的二值灰度图像与步骤S2获得的高斯晕影进行叠加计算，生成含高斯补偿的切片图案；S4、将含高斯补偿的切片图案加载至液晶空间光调制器驱动设备，开启激光生成并检测面状光斑：如果光斑不符合要求，则修改高斯晕影的参数，重复步骤S2‑S4，直至光斑符合要求。本发明解决了金属面曝光增材制造过程中光斑光强不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 光斑 光强匀化 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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