[发明专利]一种晶体制备系统有效
| 申请号： | 202110381291.3 | 申请日： | 2021-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN113106539B | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 王宇;官伟明;梁振兴 | 申请（专利权）人： | 眉山博雅新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/12 | 分类号： | C30B15/12;C30B15/14;C30B15/20 |
| 代理公司： | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人： | 严芳芳 |
| 地址： | 620010 四川省眉*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本说明书实施例提供一种晶体制备系统，该系统包括：炉体；保温筒，保温筒位于炉体内；埚组件，其中，埚组件位于保温筒内；埚组件至少包括内层埚和外层埚，其中，内层埚与外层埚之间的间隙小于预设间隙值；间隙内填充填充体；电阻加热组件，其中，电阻加热组件包括加热体，加热体包括多个加热单元，多个加热单元形成均匀温度场；多个加热单元环绕设置于埚组件外周；多个加热单元与埚组件之间的距离满足预设条件；保温层，保温层环绕设置于多个加热单元外侧、保温筒顶部和/或埚组件底部。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 制备 系统 | ||
【主权项】：
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