[发明专利]一种用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置及方法有效
| 申请号： | 202110388332.1 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113109206B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 方帅;赵建国;赵树春;李博 | 申请（专利权）人： | 上海天岳半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G01N5/04 | 分类号： | G01N5/04 |
| 代理公司： | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人： | 冯妙娜 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区中国（上海）*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于评价坩埚内原料装配均匀性的装置及方法，该装置包括：机架，所述机架的底壁上设置有支撑杆，所述支撑杆上方设置有支撑台，所述支撑台与所述支撑杆通过第一连接件转动连接或所述支撑杆与所述机架的底壁通过第二连接件转动连接，所述坩埚、所述支撑台及所述支撑杆共中心轴线设置；测试组件，所述测试组件包括至少三个测试计，每个所述测试计位于同一水平高度上，并沿所述坩埚周向分布，所述测试计的一端连接在所述机架的内侧壁上，另一端能够接触到所述坩埚的外侧壁；或测试组件，所述测试组件包括至少三个沿所述支撑杆周向分布的测试计，所述测试计的一端连接在所述机架的底壁上，另一端能够接触到所述支撑台的下表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 评价 坩埚 原料 装配 均匀 装置 方法 | ||
【主权项】：
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