[发明专利]含羟基嵌段共聚物及耐污染耐酸碱溶胀多孔膜的制备方法有效
| 申请号： | 202110389265.5 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113144911B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 易砖;左圆圆;吴涛 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/02;B01D71/80;C08J5/18;C08L53/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 贾玉霞 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种含羟基嵌段共聚物及耐污染耐酸碱溶胀多孔膜的制备方法，该方法将某一嵌段含有羰基或环氧官能团重复单元的嵌段共聚物经过还原改性后，使其两嵌段之间的χ值增加，同时使聚合物链荷电性以及pH响应性消失。本方法无需采用较高分子量的嵌段共聚物，通过原有聚合物的还原改性即可形成耐污染孔径稳定多孔膜。 | ||
| 搜索关键词： | 羟基 共聚物 污染 耐酸 碱溶胀 多孔 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学，未经浙江工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110389265.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
