[发明专利]一种氟碘酸铈二阶非线性光学晶体材料及其制备和应用有效
| 申请号： | 202110389409.7 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113235160B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 张弛;吴天辉;吴超 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G02F1/355 | 分类号： | G02F1/355;C30B29/22;C30B7/10 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 刘燕武 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种氟碘酸铈二阶非线性光学晶体材料及其制备和应用，该晶体材料的化学式为CeF |
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| 搜索关键词： | 一种 碘酸 铈二阶 非线性 光学 晶体 材料 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
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